方案概覽

含氟廢水主要由芯片生產期間的刻蝕工藝產生的，因為刻蝕工藝生產需要用到氫氟酸與氟化銨等物質。企業需要對采用化學沉淀法、離子交換法等方法處理的廢水是否達到排放標準進行評估，這就要求對氟化物去除過程進行監測。
該系統采用靈敏的氟化物離子選擇性電極（ISE），可提供可靠的測量，低至0.1PPM，高達1000PPM。化學模塊為傳感器提供樣品的調節處理，測量的氟化物濃度值顯示在控制器上，該控制器還能提供報警和模擬量輸出等功能。
實際測量中，儀器將少量樣品泵入系統中，并與緩沖液混合。隨后使處理后的樣品流入安裝有氟化物ISE和參比電極的腔室。在此腔室中測量氟化物離子濃度，氟離子濃度的變化會立即顯示在控制器上。而處理后的樣品被從測量池中抽回，并泵入采樣溢流池的排水口。
艾晟特針對芯片業氟化物的在線監測克服了電極結垢的難題，改善監測的可靠性，也有效提高了電極使用壽命。

解決的痛點

電極結垢影響設備可靠性和使用壽命。

方案特點

維護：只需要很少的維護，一加侖的緩沖液能使系統運行25天，并應每周檢查一次測量腔內傳感器的液位水平。
模擬輸出選項.：兩路4-20 mA標準輸出，默認設置提供氟化物和溫度的模擬輸出。
PID輸出：標準PID控制功能可分配給一個模擬輸出。
數字通信：Profibus-DP，Modbus-RTU或Ethernet-IP的通訊選項。
傳感器前置放大器：Auto-Chem模塊內的傳感器帶前置放大器功能，可使控制器與化學模塊單元分離安裝，遠達300英尺。
繼電器輸出：三個SPDT繼電器是標準配置，繼電器功能可編程用于報警，控制或故障指示。
獨特的降低結垢的設計